真空電鍍（PVD）的基本原理
發(fā)布時間：
2021-12-09 14:09
來源：
真空電鍍(PVD)的基本原理
惰性氣體或反應(yīng)氣體電離為氣體離子，氣體離子因靶(所謂靶是IP電
鍍的消耗材料)的負電位形成定向運動，轟擊固體靶材表面進行能量
交換，使靶材獲得能量濺射出靶原子或分子，在電場加速運動下產(chǎn)生
物理氣象沉積(PVD)于所電鍍產(chǎn)品表面，形成電鍍層。
PVD表面處理特點是：
1、光澤度好
2、無鎳環(huán)保
3、延長基本壽命1~2年
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